Periodo de gracia de novedad para solicitudes de diseños industriales en Chile

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La novedad de la invención no se verá afectada si la invención se divulga directa o indirectamente por las siguientes razones dentro de los 6 meses anteriores a la presentación de la solicitud:

  • Pruebas prácticas y construcción de maquinaria e instrumentos que el solicitante debe realizar en preparación para la invención
  • El solicitante o inventor expone en una exposición celebrada oficialmente o reconocida
  • Divulgación maliciosa por parte de terceros

专利申请流程

  • Idioma de presentación: Español

    Camino de la Convención de París vía PCT

    Documentos necesarios:

    1. el resumen de instrucción
    2. Resumen adjunto
    3. reclamos
    4. manual
    5. Instrucciones adjuntas

    Documentos necesarios:

    1. el resumen de instrucción
    2. Resumen adjunto
    3. reclamos
    4. manual
    5. Instrucciones adjuntas

    Documentos adicionales (si los hay)

    1. Listado de secuencias (formato PDF y formato TXT)
    2. Certificado de Depósito de Microorganismos y su traducción al español
    3. Certificado de Supervivencia Microbiológica y su traducción al español
    4. Poder legal
    5. Documento de Prioridad/DAS
    6. Traducción al español del certificado de prioridad
    7. Declaración de tenencia/Certificado de empleo/Certificado de asignación de prioridad
    8. Certificado de Transferencia de Derecho a Aplicar
    9. Decisión del examen de confidencialidad de la solicitud de patente china

    Documentos adicionales (si los hay)

    1. Publicación de solicitud internacional
    2. Informe de búsqueda internacional/Informe de examen preliminar
    3. Ingreso a fase nacional chilena 19/28/34/41 Modificaciones
    4. Listado de secuencias (formato PDF y formato TXT)
    5. Certificado de Depósito de Microorganismos y su traducción al español
    6. Certificado de Supervivencia Microbiológica y su traducción al español
    7. Poder legal
    8. Declaración de tenencia/Certificado de empleo/Certificado de asignación de prioridad
    9. Certificado de Transferencia de Derecho a Aplicar
  • Idioma de presentación: Español

    Camino de la Convención de París vía PCT

    Documentos necesarios:

    1. el resumen de instrucción
    2. Resumen adjunto
    3. reclamos
    4. manual
    5. Instrucciones adjuntas

    Documentos necesarios:

    1. el resumen de instrucción
    2. Resumen adjunto
    3. reclamos
    4. manual
    5. Instrucciones adjuntas

    Documentos adicionales (si los hay)

    1. Poder legal
    2. Documento de Prioridad/DAS
    3. Traducción al español del certificado de prioridad
    4. Declaración de tenencia/Certificado de empleo/Certificado de asignación de prioridad
    5. Certificado de Transferencia de Derecho a Aplicar
    6. Decisión del examen de confidencialidad de la solicitud de patente china

    Documentos adicionales (si los hay)

    1. Publicación de solicitud internacional
    2. Informe de búsqueda internacional/Informe de examen preliminar
    3. Ingreso a fase nacional chilena 19/28/34/41 Modificaciones
    4. Poder legal
    5. Declaración de tenencia/Certificado de empleo/Certificado de asignación de prioridad
    6. Certificado de Transferencia de Derecho a Aplicar
  • 2-5 años

  • 1-2 años

  • No

  • INAPI realiza exámenes de forma y de fondo de los diseños. Una vez realizado el examen de forma, el solicitante deberá extraer el extracto y publicarlo en el Diario Oficial por INAPI dentro de los 60 días hábiles. Cualquier interesado puede presentar oposición a la solicitud de patente dentro de los 45 días siguientes a la publicación, dentro de los 60 días siguientes a la finalización del plazo de oposición, haya o no oposición, se deberá pagar la tasa de examen de fondo y el comprobante de pago. presentarse ante la Oficina Chilena de Patentes. Un diseño que puede ser registrado en Chile puede ser bidimensional, tridimensional o una apariencia general que consiste en contornos, colores, formas, texturas, materiales de diseño, decoraciones, empaques, símbolos gráficos y tipografía registrables.

  • No

  • Instituto Nacional de la Propiedad Industrial de Chile

    Inglés: Instituto Nacional de la Propiedad Industrial, abreviatura: INAPI

    URL: Inicio (inapi.cl)

    Búsqueda de Patentes Chilenas de Modelo de Utilidad: INAPI - Consulta de Patentes