미국 디자인 출원이 DAS 대상입니까?

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专利申请流程

  • 공개가 발명자에 의해 발생했거나 공개자의 정보 출처가 발명자인 경우 또는 위에서 언급한 주제에 의해 공개된 후 다시 공개가 발생하는 경우 특허는 출원일/ 우선 날짜.

  • 아니요

  • 제출 언어: 영어

    파리 컨벤션 패스웨이 PCT 경로

    필요 서류:

    1. 강의 요약
    2. 첨부된 초록
    3. 주장
    4. 수동
    5. 첨부된 지침

    필요 서류:

    1. 강의 요약
    2. 첨부된 초록
    3. 주장
    4. 수동
    5. 첨부된 지침

    추가 문서(있는 경우)

    1. 서열 목록(PDF 형식 및 TXT 형식)
    2. 미생물보존증명서 및 영문번역문
    3. 미생물 생존 증명서 및 영문 번역
    4. 우선 문서/DAS
    5. 위임장
    6. 소기업 선언
    7. 발명가 진술
    8. 재직증명서/재직증명서/우선지정증명서
    9. 신청권 이전 증명서
    10. 중국 특허 출원 기밀 심사 결정
    11. IDS 양식/IDS 문서/비교 문서

    추가 문서(있는 경우)

    1. 국제 출원 공개
    2. 국제조사보고서/예비심사보고서
    3. 미국 국내 단계 진입 19/28/34/41 수정안
    4. 서열 목록(PDF 형식 및 TXT 형식)
    5. 미생물보존증명서 및 영문번역문
    6. 미생물 생존 증명서 및 영문 번역
    7. 위임장
    8. 소기업 선언
    9. 발명가 진술
    10. 재직증명서/재직증명서/우선지정증명서
    11. 신청권 이전 증명서
    12. IDS 양식/IDS 문서/비교 문서
    • 파리 컨벤션 노선: 가장 빠른 우선일로부터 6개월.
    • 헤이그 협정 경로: 가장 빠른 우선일로부터 6개월.
  • 1-1.5년

  • USPTO

    영어: 미국 특허청, 약어: USPTO

    웹사이트: www.uspto.gov

    미국 발명 특허 검색: 특허 공개 검색 | USPTO

  • 20 년

  • 예. 동일한 디자인 컨셉을 구현한 디자인의 외관이 유사한 경우 하나의 디자인 출원으로 통합 디자인을 제출할 수 있습니다.

  • USPTO는 디자인 출원에 대해 정식 심사와 실질 심사를 진행하며, 실질 심사는 자동으로 시작되며, 출원인은 별도의 실질 심사 요청서를 제출할 필요 없이 하나의 클레임만 제출할 수 있습니다. 출원인은 선행 기술, 간행물, 판매 기록 등을 포함하되 이에 국한되지 않는 디자인의 특허 가능성에 영향을 미치는 정보의 세부 정보를 IDS(Information Disclosure Statement)를 통해 공개해야 합니다. 이 의무는 특허 부여 발표 또는 특허 출원 철회까지 연장됩니다. 중요한 선행 기술을 공개하지 않으면 특허권자가 기본 특허를 시행할 수 없게 될 수 있습니다.

    • IDS가 제출일로부터 3개월 이내에 또는 첫 번째 사무소 조치가 발행되기 전에 제출된 경우 공식 수수료가 필요하지 않습니다.
    • IDS에 인용된 정보가 IDS 제출 3개월 전에 외국 특허 출원에 나타나거나 출원인 또는 출원인의 대리인이 3개월 전에 발명을 완료한 경우 추가 공식 수수료를 지불해야 합니다.