智利发明专利申请授权和年费说明

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  • 授权费:应在发布授权通知后60天内缴纳授权费。
  • 年费:年费分两次缴纳,第一个十年期的年费需在受理申请时缴纳,第二个十年期的年费在第一个十年期到期前缴纳。 如年费逾期可在6个月的宽限期内可缴纳,同时需缴纳20%的滞纳金

专利申请流程

  • 提交语言:西班牙语

    巴黎公约途径PCT途径

    必要文件:

    1. 说明书摘要
    2. 摘要附图
    3. 权利要求书
    4. 说明书
    5. 说明书附图

    必要文件:

    1. 说明书摘要
    2. 摘要附图
    3. 权利要求书
    4. 说明书
    5. 说明书附图

    附加文件(如有)

    1. 委托书
    2. 优先权证明文件/DAS
    3. 优先权证明文件西班牙语翻译文本
    4. 权属声明/雇佣证明/优先权转让证明
    5. 申请权转让证明
    6. 中国专利申请保密审查决定

    附加文件(如有)

    1. 国际申请公开文本
    2. 国际检索报告/初审报告
    3. 进入智利国家阶段19/28/34/41条修改
    4. 委托书
    5. 权属声明/雇佣证明/优先权转让证明
    6. 申请权转让证明
    • 授权费:申请人需在授权通知后60天内缴纳授权费中,授权费包含第一个五年有效期的维持费
    • 年费:后续第二个五年有效期的年费可以与第一次年费同时缴纳,也可在第一个五年有效期内缴纳,如年费逾期可在六个月宽限期内缴纳,并同时缴纳滞纳金。
  • 1年

  • 提交语言:西班牙语

    必要文件:

    1. 外观设计图片(六面视图)
    2. 简要说明

    附加文件(如有):

    1. 优先权证明文件
    2. 委托书
    3. 优先权证明文件
    4. 优先权证明文件西班牙语翻译文本
    5. 权属声明/雇佣证明/优先权转让证明
    6. 申请权转让证明
    • 授权费:申请人需在收到授权通知后60天内缴纳授权费。
    • 年费:年费分两次缴纳,每五年缴纳一次,如年费逾期可在6个月的宽限期内缴纳,并需缴纳20%的滞纳金。
  • 1-2年

  • 提交申请前6个月内由于以下原因,导致发明直接或间接披露的,不影响其新颖性:

    • 为准备发明,申请人需要进行的实际测试和机械及仪器的制造
    • 申请人或发明人在官方举办或认可的展会展示
    • 第三方的恶意披露
  • 提交申请前6个月内由以下原因,导致发明直接或间接披露的,不影响其新颖性:

    • 为准备发明,申请人需要进行的实际测试和机械及仪器的制造
    • 申请人或发明人在官方举办或认可的展会展示
    • 第三方的恶意披露
  • 10年